簡介：

儀器背景說明：
1. 廠牌及型號：JEOL，JEM-2100 （HR）
2. 重要規格：
o 加速電壓：80-200 KV
o 放大倍率：X50 ~ X1,500,000
o 解像力： point to point: 0.23 nm，Lattice image：0.14 nm
o 最小Spot size : 0.5nm
o 雙傾斜基座：X軸±35°；Y軸±30°。

3. 主要附件：
(1) Gatan 832 CCD
(2) Gatan 626 Cryotransfer holder and 655 pumping station
(3) Oxford EDS system, included Mapping function
(4) STEM Unit, included High Angle Annual Dark Field Detector(HAADF)
(5) Double、Be Double(Low Background) specimen tilt holder
4. 儀器性能：
1.具有掃描及穿透功能，可觀察材料微細組織，晶體結構及缺陷。
2. 微區繞射分析(Nano Beam Diffraction)，鑑定結晶材料微結構。
3. 高解析(HREM)，增強訊號並放大影像分析結晶材料微結構。
4. 數位存取TEM/STEM影像。
5. 具有冷凍傳輸樣品載台(Cryotransfer holder), 可有效降低Low Does樣品因電子束照射而產生的破壞。
6. 化學元素成份定性及定量,分佈(Mapping)全能譜分析：B5~U92。

研發概況：

(1)研發重點：
穿透式電子顯微鏡具有高穿透能力及高解析度，是材料科學研究上極重要的分析工具之一。利用穿透式電子顯微鏡可觀察半導體電子材料、陶瓷礦物材料、金屬材料、生醫材料、高分子材料及生物等等試片之形貌、尺寸、材料內部之微細組織、缺陷及晶體結構。同時可提供高解像分析，微束繞射分析，微區域化學成份分析。可作高角度多方位繞射分析及高品質之明、暗視野影像。兼具解析及高解像顯微多重功能，是分析奈米材料不可或缺的儀器。

(2)核心技術：
1.各種材料微細組織，晶體結構及缺陷之觀察分析。
2. 微束繞射分析(Microdiffraction)，鑑定結晶材料微結構。
3. 高解析(HREM)，增強訊號並放大影像分析結晶材料微結構。
4.化學元素成份定性及定量全能譜分析：5B~92U。

研發聯絡資訊：

實驗室聯絡人：趙珍翌
電話：03-4638800 分機：3088
E-mail：jychao@saturn.yzu.edu.tw